Очистка сточных вод производства микроэлектроники

Очистка сточных вод от фторидов

В соответствии с технологической схемой очистных сооружений химической и механической обработки кристаллов кремния (CMP WWTP) кислотно-щелочные промывные воды самотеком поступают в накопитель Т3. Сточные воды из накопителя Т3 насосом Н2 подаются в реактор с мешалкой R1. Рабочие растворы реагентов из установок приготовления и дозирования реагентов DOSE D подаются дозирующими насосами DP в реактор с мешалкой R1. Рабочий раствор едкого натра (DOSE D1) для поддержания значение pH = 8,0. Рабочий раствор сульфата алюминия (DOSE D2) с целью образования нерастворимого фторида алюминия (AlF3), а также для образования укрупненных хлопьев осадка, сорбции высокомолекулярных органических соединений (ВМС) и интенсификации процесса извлечения загрязняющих веществ.

Сточные воды из реактора R1 поступают под давлением 0,05 бар на установку ультрафильтрации UF1, где происходит извлечение дисперсных и коллоидных веществ. Реактор R1 расположен на подставке высотой 0,5 м. Установка ультрафильтрации работает под давлением 2-4 бар в непрерывном режиме тангенциальной фильтрации. На мембранах задерживаются практически все остаточные взвешенные вещества и коллоидные частицы. Установка оборудована пневматическими клапанами, управляемые контроллером Siemens. Полимерные рулонные ультрафильтрационные мембраны со стандартным сроком эксплуатации 3 года обладают высокой износо – и химстойкостью. Фильтрат УФ содержит растворимые соли, такие как Na2SO4, NaCl, NaNO3 и поступает в накопитель Т4.

Концентрат УФ под остаточным давлением подает на мешочный фильтр BF1 для удаления дисперсных веществ в виде обезвоженного осадка. Мешочный фильтр включается в себя мешки из одного, двух, трех или четырехслойного фильтроматериала либо набора сеток. Рейтинг фильтрации с каждым слоем снижается в направлении движения потока очищаемой жидкости. Данная конструкция мешочных фильтров обеспечивает высокоэффективное шламоотделение и значительный срок эксплуатации фильтра. Обезвоженный осадок сдается на утилизацию региональным предприятиям по переработке твердых отходов.

Фильтрат из BF1 возвращается на доочистку в реактор R1.

В соответствии с технологической схемой очистных сооружений химической и механической обработки кристаллов кремния (CMP WWTP) отработанные концентрированные растворы электролитов самотеком поступают в накопитель Т1. Рабочие растворы реагентов из установок приготовления и дозирования реагентов DOSE D подаются дозирующими насосами DP в накопитель Т1. Рабочий раствор едкого натра (DOSE D1) для поддержания значение pH = 8,5. Рабочий раствор сульфата алюминия (DOSE D2) с целью образования нерастворимого фторида алюминия (AlF3 ). Отработанные концентрированные растворы из накопителя Т1 подаются насосом Н2 на вакуум-выпарную установку VDU1. Вакуум-выпарная установка предназначена для упаривания концентрированных растворов для кристаллических солей, которые сдается на утилизацию региональным предприятиям по переработке твердых отходов.

Дистиллят из самотеком поступает в в накопитель Т4.

Осветленная вода из накопителя Т4 подается насосом Н5 на комплекс сорбционных фильтров ACF1 (с загрузкой смеси активированных углей СПДК-1 и БАУ-МФ), где происходит финишная очистка воды от остаточного содержания растворимых органических соединений. Из ACF1 осветленная вода под остаточным давлением поступает на сброс в городскую канализацию.

Очистка сточных вод микроэлектроники

Часть технологической схемы Очистные сооружения сточных вод электронной промышленности (AutoCAD)

Очистные сооружения CMP производства:

  • имеют дублирование основного оборудования (насосов);

  • оборудованы датчиками pH, ионов F- и взвешенных веществ (TSS);

  • оборудованы ультразвуковыми расходомерами (FT);

  • оборудованы датчиками и преобразователями давления (PT);

  • оборудованы ультразвуковыми (либо поплавковыми) датчиками уровня (LLS & HLS).

Скачать опросный лист – Очистка сточных вод

Меню
error: Content is protected !!